Runway ML ist eine auf künstlicher Intelligenz basierende Kreativsuite, die die Integration von maschinellem Lernen in Multimedia-Projekte vereinfacht. Runway ML wurde für Kreative aller Disziplinen entwickelt - Filmemacher, Designer, Künstler und Entwickler - und bietet leistungsstarke Werkzeuge für Videobearbeitung in Echtzeit, Bilderzeugung, Motion Tracking und vieles mehr, ohne dass Programmierkenntnisse erforderlich sind. Durch die Verschmelzung von benutzerfreundlichem Design mit fortschrittlichen KI-Modellen demokratisiert Runway ML den Zugang zu hochmodernen Technologien des maschinellen Lernens und ermöglicht es den Nutzern, ihre kreativen Arbeitsabläufe zu verändern und ihre Möglichkeiten des visuellen Geschichtenerzählens zu erweitern.

AI Videobearbeitung: Mit Werkzeugen wie Green Screen und Inpainting lassen sich Hintergründe, Objekte oder Artefakte aus Videos mit minimalem manuellen Aufwand entfernen.

Text-zu-Video-Generierung: Ermöglicht es Benutzern, kurze Videoclips direkt aus Textaufforderungen zu generieren, wobei fortschrittliche Diffusionsmodelle wie Gen-2 zur schnellen Visualisierung von Konzepten genutzt werden.

Bilderzeugung: Ermöglicht die Erstellung hochwertiger Bilder aus Text mit Modellen wie Stable Diffusion, mit Optionen für Bild-zu-Bild-Transformationen und Stilanpassungen.

Bewegungsverfolgung: Ermöglicht die Verfolgung von Objekten in Videoclips in Echtzeit und erleichtert so die Anwendung von Effekten oder Verbesserungen, die bestimmten Elementen in einer Sequenz folgen.

Pose-Erkennung: Identifiziert und verfolgt menschliche Körperbewegungen, ideal für die Animation von Figuren oder die Anwendung bewegungsbasierter visueller Effekte.

Grüner Bildschirm: Nutzt KI, um Motive in einem Video zu isolieren, ohne dass herkömmliche Chroma-Key-Techniken erforderlich sind, was den Postproduktions-Workflow erheblich beschleunigt.

Audio-Bereinigung: Entfernt automatisch Hintergrundgeräusche und verbessert die Sprachverständlichkeit mithilfe von Audiofiltern mit maschinellem Lernen.

Gemeinsame Projekte: Unterstützt Cloud-basierte Projekte mit Echtzeit-Kollaborationsfunktionen, die es mehreren Benutzern ermöglichen, gleichzeitig an einem Projekt mitzuarbeiten.

Model Training Interface: Bietet eine benutzerfreundliche Schnittstelle zur Feinabstimmung oder zum Trainieren benutzerdefinierter KI-Modelle auf vom Benutzer bereitgestellten Daten, die für spezielle kreative Anforderungen nützlich sind.

Anlagenbibliothek: Zugriff auf eine wachsende Bibliothek mit vortrainierten Modellen und wiederverwendbaren Elementen zur Beschleunigung des kreativen Prozesses.

Zeitleisten-basierte Bearbeitung: Enthält einen Video-Editor mit Drag-and-Drop-Funktionen, Bearbeitung mit Ebenen und Zeitleistensteuerung ähnlich wie bei herkömmlicher Videosoftware.

Wolken-Rendering: Verarbeitet alle schweren KI-Berechnungen in der Cloud, wodurch der Bedarf an leistungsstarker lokaler Hardware minimiert wird.

Plugin- und API-Zugang: Bietet die Integration mit Tools und APIs von Drittanbietern und erweitert so die Funktionalität von Runway in bestehenden kreativen Umgebungen.

Runway ML verändert den kreativen Workflow, indem es KI tief in den Design- und Bearbeitungsprozess einbindet. Dank der programmierfreien Benutzeroberfläche und des Cloud-first-Designs benötigen die Nutzer keine technischen Vorkenntnisse oder High-End-Hardware, um professionelle Medieninhalte zu produzieren. Egal, ob es darum geht, Bilder aus Text zu generieren, Videos in Echtzeit zu bearbeiten oder benutzerdefinierte Modelle für eine einzigartige Ästhetik zu trainieren, Runway bietet eine vielseitige Plattform, die sowohl für Experimente als auch für die Produktion geeignet ist. Sie zeichnet sich vor allem durch ihre Ausgewogenheit zwischen Zugänglichkeit und Tiefe aus - Kreativprofis können Ideen schnell prototypisch umsetzen und gleichzeitig komplexe, kollaborative Projekte skalieren. Da KI die Erstellung von Inhalten weiterhin neu definiert, bietet Runway ML eines der zugänglichsten und leistungsfähigsten Toolsets in diesem sich entwickelnden Bereich.